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氮化硅的生产工艺及设备2018年1月8日-在IC生产制造过程中,CVD工艺可生长介质膜、半导体膜。会被分解释放出氟自由基,F可移除氧化硅以及氮化硅。等离子体增强CVD设备MOCVD设备。

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高纯度氮化硅粉体生产工艺的制作方法本发明涉及一种氮化硅生产设备,特别是涉及一种高纯度氮化硅粉体生产工艺。背景技术::氮化硅具有良好的抗热冲击性、抗氧化性、耐高温、耐腐蚀、化学稳定性高、。

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PECVD系统淀积氮化硅工艺优化的实现--《电子科技大学》2018年硕士。PECVD氮化硅薄膜SPCminitab控制图。研究了光电探测器芯片生产过程中的PECVD淀积氮化硅薄膜工艺的影响因素,并针对量产要求进行了相关工艺实验,优化并固化了工艺条。

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高纯度氮化硅粉体生产工艺的制作方法-中航纳米技术发展有限。纳米氮化硅(Si3N4)通过气溶胶烧蚀法制备,纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,表面活性高,松装密度低,紫外线反射率为95%以上和吸收红外波段的吸收。

氮化硅刻蚀工艺的研究.pdf2015年9月9日-维普资讯团jl0,f01兰衰d——___一:.制造重与工蔓艺:.氮化硅刻蚀工艺的研究趋水林(上海先进半导体制造股份,上海,摘要:对氮化。

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氮化硅工艺本文主要介绍了用于软X射线显微术的氮化硅窗口的制备工艺,给出在国家同步辐射实验室软X射线显微术实验站使用的实验结果。Inthispaper,thefabricationofsilic。

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简述氮化硅陶瓷产品的工艺_搜狐该工艺技术在陶瓷、耐火材料、粉末冶金等领域备受关注,已经应用到碳化硅、氮化硅、赛隆、氧化锆、氧化铝、镁铝尖晶石、金属陶瓷等材料的研究与生产过程。应用前景:。

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氮化硅陶瓷成型工艺---流延成型_搜狐氮化硅陶瓷特点:一种氮化硅陶瓷陶瓷基片的专用成型方法,特别适合成型0.2MM--3MM厚度的片状陶瓷制品,生产此类产品具有速度快、自动化程度高、效率高、组织。

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氮化硅的生产工艺及设备2015年4月15日氮化硅陶瓷材料是一种综合性能优异的特种陶瓷材料;山东工业陶瓷研究开发平台;拥有从原料处理、成型、烧成及加工一整套的生产工艺设备。广东省光纤。

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